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        • PECVD 氣相沉積爐
        • CNT生產的PECVD(等離子增強化學氣相淀積)設備是一種用于在基片上生成高質量SiNx和SiO2薄膜的專用設備。淀積溫度能夠較高 (100~600oC可調 )
        • 2011-4-5  
        •     [進入商鋪]  [未核實]
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