立式真空燒結爐、單、雙管臥式真空燒結爐、壓力燒結爐、陶瓷燒結爐、鏈（帶）式燒結爐、全功能微控擴散系統(tǒng)、真空擴散爐、高溫擴散爐、烘焙排臘爐、單管氫氣爐、真空燒結爐、雙工位立式真空燒結爐、陶瓷金屬化氫氣燒結爐、馬弗爐、消磁爐、WDNI系列高精度電腦溫度控制系統(tǒng)、WDNX多功能溫度控制系統(tǒng)、全鉭玻璃絕緣子熔封爐、PFJ-2型平行縫焊機、Y80-2/ RZQ加壓檢漏臺、熱穩(wěn)態(tài)壓力機、時效爐
L4811-11-2/RZQ雙工位立式真空燒結爐
L4811-II-2/RZQ雙工位立式真空燒結爐是為滿足半導體器件和磁性材料行業(yè)的大批量、高生產(chǎn)率的要求而設計的一種較先進的燒結設備，主要用于管芯和管座的燒結，也可以做擴散、退火設備用。
主要技術指標：
1工作溫度：800℃～1200℃
2單點溫度控制精度：±2℃/24h
3恒溫區(qū)長度：400mm
4最高升溫功率：22KW
5升溫時間：≤50分鐘（室溫升至1000℃)
6真空電爐加熱功率：1KW
7設備總功率：28KW
8真空室尺寸：φ350mm，高600mm
9真空度：3 x 10-3Pa
10抽真空時間：<1h（注：初始開機時間），連續(xù)工作<20min
11主機尺寸：2050 x 1050 x 2700mm（長x寬x高）
12電控箱尺寸：750 x 850 x 1800（mm）
13供電電源：三相380V
14主機重量：2000Kg
