高真空PECVD系統

產品概述：
諾泰高真空PECVD系統是由管式爐，真空系統、供氣系統、射頻電源系統等組成。系統主要應用于金屬薄膜，陶瓷薄膜等，復合薄膜，石墨烯等生長。PECVD系統增加功能容易，可擴展等離子清洗刻蝕等功能，PECVD系統薄膜沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高等優點。

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高真空PECVD系統主要特點：

1.通過射頻電源把石英真空室內的氣體變為離子態。

2.PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積所需的溫度更低。

3.可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應力大小。

4.PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩定性高。

5.廣泛應用于：各種薄膜的生長，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和無定型硅(a-Si:H) 等。