代理德國(guó)蘇斯微SUSS MicroTec噴墨打印機(jī)、涂膠機(jī)與顯影機(jī)、光刻機(jī)、貼片機(jī)、俺膜機(jī)
DSC300 Gen3第三代投影掃描光刻機(jī)
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DSC300第三代投影掃描光刻機(jī)-1X 步進(jìn)光刻機(jī)的高產(chǎn)能替代品
SUSS公司推出了其下一代投影掃描光刻機(jī)‐‐DSC300 Gen3。這種專有的掃描光刻平臺(tái)擁有三位數(shù)的產(chǎn)能，并達(dá)到解析度（< 2 μm）的分辨率，是1X投影光刻系統(tǒng)中生產(chǎn)成本的。
用于200毫米和300毫米晶圓的靈活切換的DSC300 Gen3Bridge‐Tool經(jīng)過(guò)重新設(shè)計(jì)，性能更高，縮短不必要的時(shí) 間 。DSC300 Gen3掃描儀可提供每小時(shí)超過(guò)80片的300毫米晶圓產(chǎn)量。
其增強(qiáng)的1X Wynne‐Dyson光學(xué)鏡組和四個(gè)可按工藝菜單可選擇的數(shù)值孔徑（NA），使其能夠在薄光刻膠的應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)2微米的精細(xì)分辨率，以及在厚光刻膠應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)>100微米的DoF。
DSC300 Gen3的全視野成像技術(shù)支持大尺寸晶粒圖案和異質(zhì)集成的混合芯片封裝的行業(yè)路線要求。此外，扇出式晶圓級(jí)封裝應(yīng)用可以從其光學(xué)晶粒偏移補(bǔ)償選項(xiàng)中受益。
這個(gè)最新的晶粒偏移和擠進(jìn)/擠出緩解功能可以糾正高達(dá)±200ppm（在直徑為300毫米的晶圓上為30微米）。
通過(guò)投影掃描光刻機(jī)DSC300 Gen3，蘇斯微技術(shù)公司為其掩模對(duì)準(zhǔn)器產(chǎn)品組合提供了一項(xiàng)補(bǔ)充技術(shù)，并為傳
統(tǒng)的投影步進(jìn)光刻技術(shù)提供了生產(chǎn)成本的選擇。
亮點(diǎn)
高達(dá)每小時(shí)80片的產(chǎn)能 (400 mJ/cm2 劑量)
1X投影光刻工具中的CoO
與1X紫外光步進(jìn)光刻機(jī)一樣的2微米分辨率
≤ 1.0 μm 套刻精度（均值+3 sigma值)
無(wú)拼接的全場(chǎng)大晶粒圖形化
用于FOWLP的± 200 ppm光學(xué)晶粒偏移補(bǔ)償
一、1X步進(jìn)器的替代品
傳統(tǒng)的1X步進(jìn)光刻機(jī)浪費(fèi)了過(guò)多的時(shí)間來(lái)提高平臺(tái)移動(dòng)速度，降低平臺(tái)速度，然后停止和穩(wěn)定。這種浪費(fèi)的時(shí)間是乘以50~70次的曝光的累加，直接導(dǎo)致產(chǎn)能相當(dāng)?shù)汀?br />
相對(duì)而言，DSC300 Gen3采用其專有的平滑、連續(xù)的蛇形掃描技術(shù)，速度特別快‐‐沒(méi)有停下來(lái)浪費(fèi)時(shí)間的情況 。高度均勻的光束及其控制良好的投射區(qū)域確保了晶圓邊緣的所有圖形特征得到與晶圓內(nèi)部相同的均勻曝光劑量。此外，光束在每次掃描時(shí)都會(huì)有50%的重疊，以進(jìn)一步均勻化整個(gè)晶圓的劑量。
在每次掃描曝光之前，系統(tǒng)都會(huì)測(cè)量紫外線強(qiáng)度并控制平臺(tái)的速度，以提供工藝菜單中所設(shè)定的預(yù)期紫外線劑量。整個(gè)晶圓上的掃描光強(qiáng)均勻性可以達(dá)到97%≤3%的不均勻度）。
二、特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)
使用易于設(shè)計(jì)的全場(chǎng)掩模光刻版（非倒置）。
的圖案和位置復(fù)制
適用于大芯片和異質(zhì)集成的卓越技術(shù)
沒(méi)有步進(jìn)曝光范圍大小的限制‐沒(méi)有拼接的問(wèn)題
曝光時(shí)間快，并且均勻性好
三、高產(chǎn)能
DSC300 Gen3投影掃描光刻機(jī)將1X投影光刻技術(shù)的產(chǎn)能提升到了新的高度‐‐在低劑量的情況下達(dá)到三位數(shù)的水平（ 對(duì)于300毫米晶圓來(lái)說(shuō)，可達(dá)80wph）。DSC300 Gen3的另一個(gè)優(yōu)勢(shì)是，無(wú)論晶粒大小或晶圓圖形布局如何，高產(chǎn)能對(duì)于特定的紫外線劑量是穩(wěn)定的。此外 ，晶圓邊緣曝光（WEE）和晶圓邊緣保護(hù)（WEP）是由全場(chǎng)掩膜圖形版直接處理，不需要花額外工藝時(shí)間。
與1X步進(jìn)機(jī)相比，產(chǎn)能大幅提高
產(chǎn)能不受晶粒尺寸、曝光場(chǎng)區(qū)尺寸或圖形影響
四、投影光學(xué)器件
DSC300 Gen3投影掃描光刻機(jī)配備了Wynne-Dyson投影技術(shù)鏡頭，具有出色的成像性能。同款鏡頭也被幾家著名的1X UV步進(jìn)光刻機(jī)制造商采用，因此DSC300 Gen3具有與這些步進(jìn)式光刻設(shè)備相同的成像能力（2 μm厚光刻膠中2 μm L/S）。
然而，SUSS的Wynne-Dyson透鏡是這種充分驗(yàn)證過(guò)的光學(xué)技術(shù)的改進(jìn)與增強(qiáng)版。
非反轉(zhuǎn)式成像
掩模圖案與晶圓圖案處于同一方向，簡(jiǎn)化了掩模設(shè)計(jì)工作
DSC 300 Gen3的增強(qiáng)功能
將可選的 "精細(xì)分辨率NA "從0.14提高到了0.15。改進(jìn)了棱鏡設(shè)計(jì)、鍍膜和閉環(huán)主動(dòng)式棱鏡冷卻系統(tǒng)，獲得更大的穩(wěn)定性。當(dāng)然，寶貴的鏡頭元件受到了氮?dú)獯祾摺⑽挥阽R頭出口處的犧牲窗的保護(hù)。
性能與優(yōu)點(diǎn)
實(shí)現(xiàn)了與1X步進(jìn)光刻機(jī)相同的成像性能，但投影掃描光刻機(jī)的吞吐量要高得多。
德國(guó)SUSS MicroTec主要產(chǎn)品：
一、旋轉(zhuǎn)涂膠機(jī)和噴霧涂膠機(jī)：
自動(dòng)涂膠機(jī)與顯影機(jī)：ACS300 Gen3、ACS300 Gen2、ACS200 Gen3、ACS200 Gen3TE
半自動(dòng)涂膠與顯影機(jī)：RCD8、ECD8、HP8熱板
手動(dòng)涂膠機(jī)與顯影機(jī)：LabSpin6 / LabSpin8
二、噴墨打印機(jī)
JETxSM24噴墨打印機(jī)、JETx噴墨打印機(jī)、LP50打印機(jī)
三、光刻機(jī)、掩模對(duì)準(zhǔn)機(jī)
全自動(dòng)：MA300 Gen3、MA200 Gen3、MA100/150e Gen2
半自動(dòng)：MA12 Gen3、MA8 Gen5、MA/BA Gen4 Series
手動(dòng)：MJB4
四、測(cè)量系統(tǒng)
全自動(dòng):DSM8/200 Gen2
五、晶圓結(jié)合系統(tǒng)、自動(dòng)貼片機(jī)
全自動(dòng)：XBC300 Gen2 D2W/W2W、XBC300 Gen2、XBS300、XBS300W2W、XBS200
半自動(dòng)： BA Gen4 Serie、DB12T、LD12、SB6/8Gen2、XB8
六、光掩模設(shè)備
全自動(dòng)：MaskTrack Pro系列、ASx Serie
半自動(dòng)：HMx Serie
七、投影掃描光刻機(jī)
全自動(dòng)：DSC300 Gen3
蘇斯微SUSS MicroTec 晶圓鍵合系統(tǒng)
德國(guó)suss AS8勻膠機(jī)，HP8熱板還有l(wèi)abspin8（labspin6）勻膠機(jī)
德國(guó)Polytec掃描儀、激光測(cè)振儀、光學(xué)頭、光學(xué)振動(dòng)測(cè)量系統(tǒng)主要型號(hào)：
激光振動(dòng)計(jì)、光學(xué)測(cè)振儀
激光多普勒測(cè)振儀
激光測(cè)振計(jì)
（激光）多普勒振動(dòng)傳感器
非接觸式振動(dòng)傳感器/測(cè)量?jī)x
光學(xué)振動(dòng)測(cè)量系統(tǒng)
【一】單點(diǎn)式激光測(cè)振儀
CLV-2534-3激光測(cè)振儀
IVS-500 工業(yè)用激光測(cè)振儀
VFX-F-110激光測(cè)振儀
VibroFlex QTec VFX-I-160超低噪聲光學(xué)頭
VibroGo便攜式激光測(cè)振儀
【二】全場(chǎng)掃描式激光測(cè)振儀
VibroScan QTec Xtra、VibroScan QTec Xtra 3D全場(chǎng)掃描式激光測(cè)振儀
PSV QTec 3D超低噪聲三維掃描式激光測(cè)振儀
PSV QTec超低噪聲掃描式激光測(cè)振儀
ROBOVIB 機(jī)器人測(cè)振站
PSV-500-3D 掃描式激光測(cè)振儀：PSV-500-3D-H、PSV-500-3D-M、PSV-500-3D-HV
PSV-500 掃描式激光測(cè)振儀：PSV-500-B增強(qiáng)型、PSV-500-B高分率型、PSV-500-H、PSV-500-M、PSV-500-HV
MPV-800 多點(diǎn)式激光測(cè)振儀
【三】特殊應(yīng)用激光測(cè)振儀
VibroFlex Range 超遠(yuǎn)距離激光測(cè)振儀
RLV-5500 旋轉(zhuǎn)式激光測(cè)振儀
HSV-100 高速型激光測(cè)振儀
IPV-100 面內(nèi)激光測(cè)振儀
【四】顯微式激光測(cè)振儀
MSA-650 IRIS顯微式激光測(cè)振儀
MSA-600 顯微式激光測(cè)振儀 ：MSA-600-M (標(biāo)準(zhǔn)) MSA-600-V (帶寬擴(kuò)展)
MSA-100-3D顯微式測(cè)振儀
MSA-050顯微式激光測(cè)振儀
【五】形貌測(cè)量?jī)x
Pro.Surf大視場(chǎng)3D輪廓儀
Micro.View白光干涉儀
關(guān)于 Polytec已停產(chǎn)的型號(hào)（具體停產(chǎn)時(shí)間可能因產(chǎn)品線更新而異）：
【1. 激光測(cè)振儀（Laser Vibrometers）】
OFV-5000系列 （早期型號(hào)，已被OFV-5500/OFV-6000替代）
OFV-3000系列 （較老版本）
RSV-150 （遠(yuǎn)程振動(dòng)傳感系統(tǒng)，部分功能由新系統(tǒng)替代）
【2. 工業(yè)傳感器（Industrial Sensors）】
ILD 1400/1700 （舊版激光位移傳感器）
ILD 2200 （早期型號(hào)，后續(xù)被ILD 2300等替代）
OADM 12/I （舊版光學(xué)距離傳感器）
【3. 其他光學(xué)系統(tǒng)】
PSV-300/400 （掃描式激光測(cè)振儀，已被PSV-500系列取代）
VibroFlex （某些舊型號(hào)）
