低雜質硝酸鈰銨半導體、液晶顯示、光掩模蝕刻

硝酸鈰銨，化學式 ：(NH?)?Ce (NO?)?

分子量 548.23，是一種橙紅色單斜晶系結晶粉末，具有強氧化性

溶解性：易溶于水 (約 1000g/L) 和乙醇，幾乎不溶于濃硝酸
穩定性：空氣中易潮解，加熱至 107-108℃分解，強氧化劑
CAS 號：16774-21-3，

半導體與顯示產業（電子級主要應用）
鉻蝕刻液：液晶面板和光掩模生產中，精確蝕刻鉻薄膜，分辨率可達納米級
硅片清洗：去除表面有機物和金屬雜質，提高芯片良率
銅互連處理：在先進制程中作為拋光液組分，實現全局平坦化

• 選擇性氧化劑：醇→醛 / 酮、烯烴環氧化、芳烴硝化等，反應條件溫和，選擇性高
• 醫藥中間體合成：用于制備醫用輔料的精細化學品，減少副產物，提高純度

3. 功能材料制備

• 納米氧化鈰：熱分解 CAN 可制備高純 CeO?納米粉體，用于催化、拋光和燃料電池
• 光學鍍膜：溶膠 - 凝膠法制備高透明氧化鈰薄膜，用于鏡頭增透和保護涂層
• 電子陶瓷：添加于多層陶瓷電容器 (MLCC)，改善介電性能和穩定性