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| 產(chǎn)品參數(shù) | |||
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| 產(chǎn)品特性 | 拋光研磨 | ||
| 新舊程度 | 8成新 | ||
| 設(shè)備所在地 | 東莞茶山 | ||
| 設(shè)備生產(chǎn)產(chǎn)地 | 江西 | ||
| 產(chǎn)品數(shù)量 | 5 | ||
| 加工 | 380 | ||
| 最小加工 | 1 | ||
| 可售賣地 | 全國 | ||
| 型號 | 16B-5P | ||
一，用途：?本機主要用于硅片、砷化鉀片、陶瓷片、石英晶體、玻璃及其它硬脆材料的雙面研磨。本機從設(shè)備的結(jié)構(gòu)、精度、功能、可靠性、工藝性等方面進行優(yōu)化設(shè)計，性能優(yōu)良，完全能滿足用戶的使用要求。
?二.?概述
1.1本機采用龍門式結(jié)構(gòu)，外型美觀大方，提高了整機剛度。
1.2整機的運行采用單電機拖動，通過減速機后由四組不同速比的齒輪給上研磨盤、下研磨盤、齒圈、中心輪提供不同的速度，使四種速度達到的配比，滿足工藝的要求，其中中心輪相對與其它三個轉(zhuǎn)速的速比可調(diào)（兩級），使游輪自轉(zhuǎn)可實現(xiàn)正轉(zhuǎn)、反轉(zhuǎn)，滿足了不同研磨（修盤）工藝的需求。
1.3本機為下研磨盤升降方式、下研磨盤的高低位置可在總行程范圍內(nèi)隨意停留自鎖，以滿足改變游輪嚙合高低位置的需要；
1.4本機繼承其它研磨機壓力控制的成功經(jīng)驗：采用四段壓力，即輕壓、中壓、重壓、修研（輕壓）的運行過程；?
1.5本機采用PLC、四行文本顯示器，變頻調(diào)速，電機速度由外設(shè)電位器手動隨時調(diào)節(jié)；速度由預(yù)設(shè)的四段速度因運行時間而自動改變，四段速度的運行時間與四段壓力時間相對應(yīng)。設(shè)備留有工件測厚裝置接口；
1.6接液盆、護圈的設(shè)計采用半露式結(jié)構(gòu)，保證了設(shè)備工作時不會漏砂，并且便于用戶對設(shè)備進行清理；
1.7研磨速度的匹配，符合國際上通用的研磨機理，此速度匹配已被普遍認可。
?三.主要技術(shù)參數(shù)
1.?研磨盤尺寸（mm）：??φ1118×?φ386?×50
2.?游輪參數(shù)：?????????英制：齒數(shù)Z＝200??DP＝12?α＝20°
??????????????????????公制：齒數(shù)Z＝142??m＝3???α＝20°
3.?游輪數(shù)量：?????????5片
4.?修正輪數(shù)量：???????4片
5.?最小研磨厚度：?????0.50mm/φ125，0.40mm/φ100，
0.35mm/φ75
6.?研磨厚度：?????30mm
7.?研磨直徑及片數(shù)?????φ75/17片??φ100/8片?φ125/5片
8.?研磨直徑：?????φ350?mm
9.?下研磨盤轉(zhuǎn)速:???????0～60rpm
10.?主電機：??????????11Kw????380V???1460rpm
11.?三相電泵??????????AB-100???250W??100L/min
四.精度指標(biāo)
1．?下研盤端面跳動0.08.
2．?上、下研磨盤平面度0.030.（只檢查下盤）。
3．?太陽輪徑向跳動：0.12.
4．?齒圈徑向跳動；0.20.
5．?上、下研磨盤回轉(zhuǎn)中心不重合度≤0.5mm.
四個修正輪精度狀況：
6．?厚度一致性：0.008
7．?上下面平面度：0.005
8．?上下面平行度：0.006
9.????整機噪音：????≤75dB(A)
四，庫存明細
??????????????銷售設(shè)備清單 | ||||
序號 | 設(shè)備名稱 | 規(guī)格型號 | 品牌 | |
1 | 雙面拋光機 | 6B/9B/9.6B/13B/15B/16B/18B/20B/21B/28B/30B/40B | 日本濱井/創(chuàng)技/瑞德/宇環(huán)/宇晶/勞爾品牌 | |
2 | 真空蒸發(fā)鍍膜機 | LP1650/1800/2350/1104 | 光弛/龍翩/新科隆/萊寶/聯(lián)合 | |
3 | 自動移載機 | PH802 | ||
4 | 自動移載機 | PH802 | ||
5 | 8寸貼膜機 | UTAS208A | ||
6 | 下擺機 | 光進/時代 | ||
7 | 推拉機 | 永田 | ||
8 | 銑磨機 | 勇益 | ||
9 | 仿形機 | 120/150/170/200/250 |
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